Måling av overflatetopografi
Valg av målemetode bestemmes av hvor små detaljer man ønsker å se, og hvor store billedutsnitt man trenger. Ulike instrumenter kan måle topografi og form over bestemte lengdeskalaer både sideveis og i høyden. Tabellen angir de måleområdene og instrumentene som er tilgjengelig hos SINTEF Materialer og kjemi.
Høyde-
oppløsning | Sideveis
oppløsning |
Billedbredde |
Instrument |
| 0,1 nm | 1 nm | 100 nm - 250 µm | "Atomic Force" Mikroskop (AFM) |
| 1 nm | 1 µm | 60 µm - 10 cm | Hvittlysinterferometer (WLI) |
| 1 - 100 µm | 10 - 1000 µm | 1 cm - 1 m | Strukturert lys |
Kontaktperson: Børge Holme, tlf. 98 28 39 46
